2026年03月26日讯：近日，合肥森田新材料有限公司湿电子化学品项目环境影响评价第一次公示。

项目建设地点位于合肥经开化工园区机场东路和奔牛路交叉口东南角，项目性质属新建项目，项目分两期实施，其中一期建设年产3万吨缓冲刻蚀液（BOE），包括综合楼、研发楼、BOE生产车间、液氨罐区、原料及产品罐区、甲类及危废仓库、公用工程楼、锅炉房及机修间等建筑，配套建设消防水池、应急池、初期雨水池、集装箱堆场等，以及配套的环保、安全、消防等设施。二期建设年产2万吨电子级氢氟酸（DHF），包括DHF车间、原料及产品罐区等。

延伸阅读：

缓冲刻蚀液（Buffered Oxide Etchant, BOE）是由氢氟酸（HF）与氟化铵（NH₄F）按特定比例混合而成的腐蚀性溶液，其核心在于氟化铵作为缓冲剂能有效维持蚀刻速率稳定，避免因氢氟酸消耗过快导致的反应失衡。在半导体与微电子制造领域，BOE被广泛用于二氧化硅（SiO₂）层的精确蚀刻，凭借其可控的蚀刻速率与高选择比，能够在硅基底、氮化硅等材料表面实现无损加工，是晶圆清洗、栅极结构成型及MEMS器件制备中的关键湿法工艺材料。未来，面向量子器件、柔性电子等新兴领域，BOE的配方优化将聚焦于更低损伤性、更高选择比及环保化替代方向，通过对纳米尺度蚀刻机理的深入研究，进一步拓展其在高端制造中的工艺窗口。

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